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HF:Si+4HF==2H2+SiF4,SiF4+2HF==H2SiF4
F2：Si+2F2==SiF4
浓强碱水溶液：Si+2NaOH+H2O==Na2SiO3+2H2（此处用NaS2iO3表示硅酸钠,实际会产生多种硅酸钠,如Na2Si2O7、Na4SiO4等）
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硅与水的反应:
硅与水常态下不反应
硅与水反应非常缓慢Si +3H20=== H 2SiO3+ 2H2
无定形硅与碱溶液反应剧烈Si+ H20 + 2NaOH === Na 2SiO3+ 2H2硅与氧气和水反应的生成物是什么Si+O2+H2O一> H2SiO3硅酸
硅与酸反应:
硅不会与稀盐酸反应。
单质硅低温下并不活泼，与水、 空气和酸均无作用，当然也不与氢氟酸反应，但与强氧化剂和强碱溶液作用。
单质硅在溶液中的典型反应是:
Si+2NaOH+HO=NaSiO3+2H2
这是某些场合制备氢气的一种方法。 硅亲氧，故在强碱中很容易发生此反应。依此类推，硅亲氟，容易生成Si-F键(此键弱于Si-O键，故氟硅酸根遇碱分解)，在HF中，具备了F,又具备了生成氢气的氢离子，应该会发生反应，不过在室温下，在过量HF中，应该主要生成氟硅酸，而不是SiF: Si + 6HF = HSiFs + 2H
氟化氢(氢氟酸)是唯一可 使二氧化硅溶解的酸，生成易溶于水的氟硅酸:测其二氧化硅的比表面积。
SiO2 + 4HF=SiE↑ + 2H20
氢氟酸与硅是一个自发进行的氧化还原反应，放热反应。反应条件:常温就可以了。氢氟酸是弱酸，常温下可以和硅反应，只不过反应速率很小，所以不容易察觉，但是提高温度时反应速度迅速增加，反应如下:根本原因是四氟化硅是气体，挥发了。
Si + 4HF = SiE(g) + H(g)
另外二氧化硅能跟其反应，同样是四氟化硅气体。
SiO2 + 4HF = SiF(g) + 2H0
在硅半导体元件生产中，有时需要腐蚀硅片，常用硝酸-氢氟酸混酸，其反应可以表示:Si + 4HNQ3== SiO2+ 2H2O + 4NO2↑，SiO2+ 6HF =H2SiF。+ 2H2O这一事实，同样说明硅不能跟氢氟酸发生化学反应。常采用氢氟酸来清除硅片表面的氧化膜SiO2。
你可以参考参考
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还有什么方法
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您具体是想要知道硅和哪种物质能否发生反应呢
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跟氟化氢和氧气反应